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創(chuàng)新|創(chuàng)業(yè)|連接知識(shí)產(chǎn)權(quán)變革者

近日，IEEE(電氣與電子工程師學(xué)會(huì))-2015年專利電源記分卡年報(bào)出爐，EMC、IBM、微軟、西部數(shù)字、VMware分別位列前5。

IEEE專利實(shí)力評(píng)估是IEEE SPECTRUM雜志發(fā)布的年度綜合分析。自2007年出版，截至2015年11月30日已出版9次。

通過(guò)對(duì)全球6000多家領(lǐng)先商業(yè)企業(yè)、學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)、非營(yíng)利組織和政府機(jī)構(gòu)的專利組合進(jìn)行基準(zhǔn)測(cè)試，IEEE給出了其實(shí)力指數(shù)來(lái)評(píng)估誰(shuí)擁有最有價(jià)值的專利組合。專利實(shí)力評(píng)估按機(jī)構(gòu)所在行業(yè)分類評(píng)估，每次發(fā)布17個(gè)名單:航空空航天與國(guó)防、汽車及零部件、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)、通信/網(wǎng)絡(luò)設(shè)備、通信/網(wǎng)絡(luò)服務(wù)、計(jì)算機(jī)設(shè)備與存儲(chǔ)、計(jì)算機(jī)軟件、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、電子產(chǎn)品、醫(yī)療設(shè)備、科學(xué)儀器、半導(dǎo)體設(shè)備制造、半導(dǎo)體制造、集成型

獨(dú)特的排名方法

需要指出的是，IEEE的專利實(shí)力排名與我們通常想象的排名方法有很大不同。通常我們會(huì)以專利數(shù)量來(lái)對(duì)公司的專利實(shí)力進(jìn)行排名。另一方面，IEEE專利實(shí)力評(píng)估表綜合考慮了專利組合的數(shù)量和技術(shù)價(jià)值。由于以技術(shù)加權(quán)的專利組合規(guī)模作為衡量依據(jù)，專利實(shí)力評(píng)估可以全面、準(zhǔn)確地評(píng)估一個(gè)組織的技術(shù)實(shí)力。

專利綜合實(shí)力是將專利數(shù)量、專利增長(zhǎng)、技術(shù)影響力、技術(shù)原創(chuàng)性、技術(shù)普適性綜合后的綜合指標(biāo)。公式為:管道功率)=去年專利數(shù))×管道增長(zhǎng)指數(shù))×調(diào)整后管道影響)×管道原創(chuàng))×管道通用性。

IEEE對(duì)專利強(qiáng)度的幾點(diǎn)關(guān)注；

1.專利增長(zhǎng)指數(shù)。如果專利增長(zhǎng)指數(shù)大于1，則表明組織的專利活動(dòng)在增加。如果專利數(shù)量快速增長(zhǎng)，對(duì)排名幫助很大。比如EMC和VMware，專利數(shù)量絕對(duì)算不上大，但是增長(zhǎng)指數(shù)在1.5以上，所以排名比較靠前。這可以理解為IEEE重視專利增長(zhǎng)所體現(xiàn)的企業(yè)創(chuàng)新活力。

2.技術(shù)影響指數(shù)。修正后的技術(shù)影響指數(shù)用于衡量一個(gè)組織的專利組合對(duì)后續(xù)技術(shù)開發(fā)的影響。計(jì)算方法如下:首先計(jì)算技術(shù)影響指數(shù)的基本值，然后根據(jù)自引率修正技術(shù)影響指數(shù)的基本值，消除極端自引的影響。如果自引率超過(guò)行業(yè)平均水平，則應(yīng)適當(dāng)降低企業(yè)的專利技術(shù)影響力。經(jīng)校正的技術(shù)影響指數(shù)分別超過(guò)1.7和2.5的EMC和VMware對(duì)他們的排名貢獻(xiàn)很大。

3.技術(shù)原創(chuàng)指數(shù)。技術(shù)原創(chuàng)指數(shù)用于衡量一個(gè)組織的專利組合所引用的技術(shù)領(lǐng)域的廣度。一般來(lái)說(shuō)，改進(jìn)發(fā)明傾向于指來(lái)自單一領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，而原始發(fā)明傾向于指來(lái)自多個(gè)不同領(lǐng)域的技術(shù)，從而形成新發(fā)明。各公司在該指數(shù)中的代表性大于或小于1，波動(dòng)不大。

4.技術(shù)普適指數(shù)。它用于衡量引用一個(gè)組織的專利組合的專利技術(shù)領(lǐng)域的廣度。技術(shù)普適性指數(shù)越大，一個(gè)組織的專利技術(shù)普適性越好，對(duì)后續(xù)技術(shù)創(chuàng)新的影響范圍越大。VMware、Western Digital、EMC都有很高的技術(shù)普適性指標(biāo)，對(duì)排名貢獻(xiàn)很大。